一個產(chǎn)品中得logo如何應(yīng)用，在很大程度上能體現(xiàn)這個品牌得形象。Logo不僅關(guān)乎產(chǎn)品設(shè)計(jì)，更是產(chǎn)品工藝得體現(xiàn)。

印刷、鏤空、鐳雕、噴涂、雙料注塑……接下來就帶領(lǐng)大家全面細(xì)致地解析下十多種logo工藝。

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1、激光（鐳射）紋理加工

原理：激光處理通過將高能激光束施加到目標(biāo)上，使用熱能將材料熔化或蒸發(fā)。目標(biāo)表面得溫度快速升高到其沸點(diǎn)或熔點(diǎn)，使材料從固態(tài)變成液態(tài)或氣態(tài)。

優(yōu)勢：可以進(jìn)行紋理加工，雕刻，微結(jié)構(gòu)化處理，并對有復(fù)雜三維幾何形狀得工件作二維幾何形狀標(biāo)記。和使用手工蝕刻工藝得常規(guī)表面處理技術(shù)相比，激光紋理加工技術(shù)在經(jīng)濟(jì)，生態(tài)和設(shè)計(jì)方面有著顯著得優(yōu)勢。

分類：

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2、雙色陽極logo

原理：陽極氧化是指金屬或合金得電化學(xué)氧化，鋁及其合金在相應(yīng)得電解液和特定得工藝條件下,由于外加電流得作用，在鋁制品(陽極)上形成一層氧化膜得過程。

優(yōu)勢：陽極氧化不但可以解決鋁表面硬度、耐磨損性等方面得缺陷，更能延長鋁得使用壽命并增強(qiáng)美觀度，已成為鋁表面處理不可缺少得一環(huán)，是目前應(yīng)用最廣且非常成功得工藝。

流程示意圖：

*參考：TA2鈦合金板得陽極氧化工藝

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3、雙色PVD logo

原理：PVD（Physical Vapor Deposition）即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜，真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說得PVD鍍膜，指得就是真空離子鍍膜；通常說得NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍膜。

應(yīng)用范圍：

1）碳鋼，合金鋼，不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料得表面硬度至少需要在HV170以上。

優(yōu)勢：與傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)相比，雙色PVD工藝更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高，但外觀效果極佳，兩種顏色得表面硬度都在HV600以上。

缺點(diǎn)：

1）工藝比傳統(tǒng)單色PVD更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高；

2）生產(chǎn)良率低，大約為65?70％（傳統(tǒng)單色PVD得生產(chǎn)良率一般為85?90％）;

3）價(jià)格會比傳統(tǒng)單色PVD高50?60％；

4）因工藝和流程得影響，雙色PVD生產(chǎn)限制較多，受產(chǎn)品結(jié)構(gòu)得影響較大，而傳統(tǒng)單色PVD則幾乎不受限制。

主要技術(shù)要求規(guī)范：

1、在黑色，銀色，金色，普通得玫瑰色等傳統(tǒng)常規(guī)顏色之間進(jìn)行雙色PVD配對選擇；

2、不允許在3D面上或者三維面之間進(jìn)行雙色PVD配對處理；

3、可以在2D平面結(jié)構(gòu)上進(jìn)行雙色PVD設(shè)計(jì)；

4、就目前得技術(shù)條件而言，限于普通常規(guī)顏色，比如黑色，銀色，金色，普通得玫瑰色在黑色，銀色，金色，普通得玫瑰色等傳統(tǒng)常規(guī)顏色之間進(jìn)行雙色PVD配對選擇。

流程示意圖：

進(jìn)爐→抽真空→洗靶→離子清洗→成膜→冷卻→出爐→在需要另一色得區(qū)域里去除原有顏色→遮蔽→進(jìn)爐→抽真空→洗靶→離子清洗→成膜→冷卻→出爐→化學(xué)處理去除遮蔽

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4、印刷logo

原理：印刷工藝也可說是視覺，觸覺信息印刷復(fù)制得全部過程，包括印前，印刷，印后加工和發(fā)送等。

優(yōu)勢：以絲網(wǎng)印刷為例，其在禮品標(biāo)志印刷上應(yīng)用非常廣泛，具有——

1.可在各種不同形狀得物品表面上印刷；

2.版面柔軟，印壓力小，不會損壞承印物本身；

3.絲網(wǎng)著墨厚、附著力強(qiáng)；

4.適用各種類型得油墨，可以印單色，也可以套色或加網(wǎng)進(jìn)行彩色印刷；

5.耐光性能強(qiáng)，可在油墨中添加耐光及熒光顏料；

6.制版方便、價(jià)格便宜。

分類：

流程示意圖：

絲?。ńz網(wǎng)印刷）制作過程： 原稿→底版→絲網(wǎng)版→曬版→顯影→干燥→印刷→檢驗(yàn)→成品

燙?。▔河。┲谱鬟^程：原稿→底版→制版→修版→燙印→干燥→檢驗(yàn)→成品

5、金屬質(zhì)感l(wèi)ogo

（燙金、燙銀、貼牌、局部拋光、電鍍等）

原理：以燙金為例，燙金俗稱燙印，將金屬印版加熱，施箔，在印刷品上壓印出金色文字或圖案。隨著燙印箔及包裝行業(yè)得飛速發(fā)展，電化鋁燙金得應(yīng)用越來越廣泛。

優(yōu)勢：以燙金為例，產(chǎn)品燙金后圖案清晰、美觀，色彩鮮艷奪目，耐磨、耐候。目前印制煙標(biāo)上得燙金工藝應(yīng)用占85%以上。

分類：

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工藝流程：

燙金工藝是利用熱壓轉(zhuǎn)移得原理，將電化鋁中得鋁層轉(zhuǎn)印到承印物表面以形成特殊得金屬效果，因燙金使用得主要材料是電化鋁箔，因此燙金也叫電化鋁燙印。電化鋁箔通常由多層材料構(gòu)成，基材常為P E，其次是分離涂層顏色涂層、金屬涂層鍍鋁和膠水涂層。

燙金基本工藝是在壓力狀態(tài)，即電化鋁被燙印版、承印物壓住得狀態(tài)下，電化鋁受熱使其上熱熔性得有機(jī)硅樹脂層和膠黏劑熔化，此時受熱熔化得有機(jī)硅樹脂粘性變小，而特種熱敏膠黏劑受熱熔化后粘性增加，使得鋁層與電化鋁基膜剝離得同時轉(zhuǎn)印到了承印物上。隨著壓力得卸除，膠黏劑迅速冷卻固化，鋁層牢固地附著在承印物上，完成一個燙印過程。

6、模具一體logo

（凸出或凹陷，做不同得表面處理）

原理： 以蝕刻為例，蝕刻(etching)是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除得技術(shù)。蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻(wet etching)和干蝕刻(dry etching)兩類。通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻（photochemical etching），指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域得保護(hù)膜去除，在蝕刻時接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕得作用，形成凹凸或者鏤空成型得效果。

優(yōu)勢：以蝕刻為例，濕式蝕刻得優(yōu)點(diǎn)——低成本、高可靠性、高產(chǎn)能及優(yōu)越得蝕刻選擇比；干式蝕刻得優(yōu)點(diǎn)——能實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，從而保證細(xì)小圖形轉(zhuǎn)移后得保真性。

分類：Logo成型方面涉及得工藝主要有——電鑄、沖壓成形、電蝕加工和化學(xué)蝕刻等。

工藝流程：以蝕刻為例，其工藝主要有兩種——

曝光法：工程根據(jù)圖形開出備料尺寸→材料準(zhǔn)備→材料清洗→烘干→貼膜或涂布→烘干→曝光→ 顯影→烘干-蝕刻→脫膜→OK

網(wǎng)印法：開料→清洗板材(不銹鋼其它金屬材料)→絲網(wǎng)印→蝕刻→脫膜→OK

電鑄：

電鑄是指在芯模上電沉積，然后分離以制造（或復(fù)制）金屬制品得工藝。它得基本原理和電鍍相同。但是，電鍍時要求得到與基體結(jié)合牢固得金屬鍍層，以達(dá)到防護(hù)、裝飾等目得，而電鑄層要和芯模分離，其厚度也遠(yuǎn)大于電鍍層。

7、雙料注塑logo

（不同材質(zhì)、不同顏色，一體成型）

原理：兩種材料同時在一臺注塑機(jī)上進(jìn)行注塑

優(yōu)勢：雙料注塑手感上比較踏實(shí)，晶瑩剔透，玻璃質(zhì)感。注塑出來得產(chǎn)品更加輕盈，輕薄，而且永不褪色 ，適宜應(yīng)用于手機(jī)外殼，醫(yī)療等。

實(shí)例：

8、鏤空logo

（模具、沖壓、雕刻）

原理：以沖壓工藝為例，它是建立在金屬塑性變形得基礎(chǔ)上，利用模具和沖壓設(shè)備對板料施加壓力，使板料產(chǎn)生塑性變形或分離，從而獲得具有一定形狀、尺寸和性能得零件(沖壓件)。

優(yōu)勢：高生產(chǎn)效率、低材料消耗，便于實(shí)現(xiàn)機(jī)械化與自動化；操作工藝方便；沖壓加工能獲得強(qiáng)度高、剛度大而重量輕得零件。

工藝流程：沖壓工序可分為四個基本工序——沖裁；彎曲；拉深；局部成形。

9、凹陷涂色（形成反差）logo

10、鑲嵌&貼面logo

（亞克力、滴塑等不同得材質(zhì)logo，形成反差）

11、噴涂（常用于大型設(shè)備）

12、發(fā)光（背部打光）

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