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每瓦姓能高出63__Intel“2nm”工藝紙

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2023-03-23 20:34:40    作者:葉欣儀    瀏覽次數(shù):78
導(dǎo)讀

大家都知道Intel的4年搞定5代CPU工藝的戰(zhàn)略了,這個過程中最重要的提升就是20A及18A兩代工藝,將在2024年上半年、下半年準(zhǔn)備就緒,相當(dāng)于友商的2nm及1.8nm工藝,比臺積電的進(jìn)度要快2年。Intel的目標(biāo)是在2025年實現(xiàn)重

大家都知道Intel的4年搞定5代CPU工藝的戰(zhàn)略了,這個過程中最重要的提升就是20A及18A兩代工藝,將在2024年上半年、下半年準(zhǔn)備就緒,相當(dāng)于友商的2nm及1.8nm工藝,比臺積電的進(jìn)度要快2年。

Intel的目標(biāo)是在2025年實現(xiàn)重返半導(dǎo)體工藝領(lǐng)先地位,能不能成功的關(guān)鍵就看20A及18A了。

從技術(shù)上來說,20A及18A不僅是首款進(jìn)入埃米節(jié)點的工藝,還會首發(fā)兩大突破性技術(shù),也就是RibbonFET和PowerVia,其中RibbonFET是Intel對Gate All Around晶體管的實現(xiàn),它將成為公司自2011年率先推出FinFET以來的首個全新晶體管架構(gòu)。

該技術(shù)加快了晶體管開關(guān)速度,同時實現(xiàn)與多鰭結(jié)構(gòu)相同的驅(qū)動電流,但占用的空間更小。

PowerVia是Intel獨有的、業(yè)界首個背面電能傳輸網(wǎng)絡(luò),通過消除晶圓正面供電布線需求來優(yōu)化信號傳輸。

最終到底如何?以20A為例,它的每瓦性能比Intel 3高出15%,后者又比Intel 4高出18%,Intel 4又比當(dāng)前的Intel 7工藝提升20%的每瓦性能,算下來20A比當(dāng)前的13代酷睿能效高出63%以上。

如此夸張的能效下,有網(wǎng)友計算了下,這就意味著當(dāng)前250W酷睿i9-13900K的性能當(dāng)時候至需要90W即可,不需要高功耗就能實現(xiàn)強(qiáng)大性能釋放,對筆記本來說尤其重要。

當(dāng)然,這些還是20A工藝的紙面性能,具體如何還要等產(chǎn)品上市,首發(fā)20A工藝的應(yīng)該是15代酷睿Arrow Lake了,明年上市。

 
(文/葉欣儀)
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